该晶圆制作厂建在华北位置，具体生產8屏幕尺寸光电器件晶圆，单日废水处理排缩量上涨量约800吨。因生產过程中 中利用不少氢氧化钠使用晶圆蚀刻，促使废水处理中氟化物密度到达200-300mg/L，远超地方排缩量上涨标准（10mg/L下列）。 工业废水化学物质及源头 废污水主要是来自于四个节点： 晶圆蚀刻流程 ：含高酸度氟化物（HF）、硝酸铵及几瓶高价属 催化物理拋光（CMP）废液 ：含奈米级硅颗料、生物碳络合剂 设施洁净废污水 ：含异丙醇、氟化物等设计物 正确处理生产工艺程序 进行"普通机械水解+水泥混凝土水解+厚度过滤器"三级职业资格证书治疗体统： 一級补救 ：加药系统氯化钙和氢氧化的钙，行成氟化钙水解，氟化物取除率达85% 二次元处里 ：加PAC（配位聚氯化铝）和PAM（高密度聚乙烯酰胺），清掉溶液态污染问题物 三级分销治疗 ：根据多媒质管道过滤器器和活性氧炭吸附物，喷水氟化物氨水浓度动态平衡在8mg/L下面 重要的仪器例如：pH电脑自动控制系统的、斜管沉定池、板框厢式压滤机（工业废水脱水烘干）。 最终能够特效 建设项目程序运行三年期探测数据凸显凸显： 氟化物峰值渗透压：7.2mg/L（最低国内规则） COD剔除率：92% 废水含水分率：≤65% 年环保再生成本回收氟化钙副厂品约150吨，变现成本化利用